随着国际半导体市场的迅速发展，芯片生产工艺的更新也越来越快。然而受到外界环境的影响，国内的芯片生产企业很难扩大生产规模。据悉，由于《瓦森纳协定》的原因，加上老美的插手，中芯国际向荷兰光刻机巨头 ASML，订购了一台 EUV光刻机，但却迟迟没有交货。

到了2023年，美、日、荷三国已经达成协议，限制了深紫外光刻设备的出口。这一举动，对国产芯片的生产，造成了一定的影响，中芯国际甚至放出话来，要推迟一些工厂的生产。

在这种情况下，中企若要扩大生产，就得先解决芯片设备的供给问题。而就是在这种情况下，国内的光刻机，也是喜闻乐见，而上海微电子，更是迎来了一个全新的发展时期。

据有关资料显示：上海微电子是我国光刻设备的一流厂商，其后道光光刻设备，在我国的市场占有率超过80%（占世界40%）。所以，当美国的新法规出台后，外界对该公司的期待便更大了，期待着它能尽快地解决芯片装备的技术难题。

在官方网站上，上海微电子已经研发出了一种90 nm工艺的 ArF光刻机，可以在48 nm到65 nm之间进行加工，不过到目前为止，还没有任何关于这款设备投入生产的报道。

最近，有网友透露，上海微电子的一台光刻机，已经进入了中国的供应链，正在进行测试。

这个消息的可信度很高，北京燕东微电子公司，正在进行一项名为《基于成套国产装备的特色工艺12吋集成电路生产线项目》的研发，旨在打造出中国第一条具有自主控制能力的国产芯片生产线，而这条生产线的名字，也被称为“中国制造”。

根据计划，第一期工程将于四月份开始试生产，所有的设备都已经采购好了。对上海微电子来说，这代表着自主研发的光刻装备，已经迈入了一个全新的台阶。

此前国内的光刻机之所以发展缓慢，很大程度上，是因为没有真正投入使用的工厂。设备已经造好了，但还没有人订购，这就造成了设备的调整速度太慢，从而影响了设备的升级和迭代。

而现在，国家正在大力发展半导体工业，这就给了上海微电子自己研究出来的那台光刻设备发挥了很大作用。可以说，国内的光刻机，已经进入了一个全新的发展阶段。

比尔盖茨曾经说过，如果对相关的芯片公司进行出口限制，那么美国人就会失去工作，中国也会慢慢的自给自足。

现在看来，比尔盖茨所担心的一切都是真的，随着国产芯片的量产，华国将逐渐形成一个完整的闭环系统。用国内的装备，代替国内的装备，来实现整个芯片生产过程。而如果这个模型能够实现的话，将会极大地加速相关技术的发展。

此外，据说上海微电子正在对28纳米工艺的渗透式光刻进行攻关，但一些零件的供货问题仍然悬而未决。如果传闻是真的，最快两年内，就能生产出第一台28纳米光刻机。到了那个时候，大部分14 nm以上的芯片，都可以通过国产设备来量产。